Mizon Cicaluronic Water Fit Mask

2.54 

В наличии

Артикул: 8809663752675

Описание

Гидрогелевая маска из 100% экологически чистой целлюлозы, которая идеально плотно прилегает к коже, обеспечивает увлажнение и успокаивает сухую и чувствительную кожу за счет применения запатентованного комплекса Mizon из центеллы азиатской и 8 видов гиалуроновой кислоты. Центелла азиатская обладает мощным успокаивающим действием и ускоряет регенерацию кожи. Маска содержит 8 видов гиалуроновой кислоты с разной молекулярной массой. Такой комплекс гораздо эффективнее, так-как гиалуроновая кислота с низкой молекулярной массой лучше впитывается, однако гиалуроновая кислота с высокой молекулярной массой на более длительное время сохраняет влагу в коже. Поэтому данный комплекс оптимально быстро и надолго увлажняет кожу. Маска подходит веганам, содержит 94% натуральных экологических ингредиентов, дерматологически протестирована.

Способ применения
Используйте на очищенное лицо и желательно после использования тоника. Откройте упаковку и первым шагом нанесите находящуюся внутри жидкость на лицо и шею. Нанесите и разгладьте маску на лице так, чтобы она плотно прилегала. Через 15-20 минут снимите маску и массажными движениями распределите оставшуюся эссенцию до полного впитывания.

Объем: 1шт (24г)

Состав
Water, Methylpropanediol, Glycerin, 1,2-Hexanediol, Panthenol, Hydroxyacetophenone, Diethoxyethyl Succinate, Acrylates/C10-30 Alkyl Acrylate Crosspolymer, Tromethamine, Centella Asiatica Extract, Trehalose, Allantoin, Centella Asiatica Root Extract, Centella Asiatica Leaf Extract, Xanthan Gum, Disodium EDTA, Butylene Glycol, Sodium Hyaluronate, Potassium Hyaluronate, Hydroxypropyltrimonium Hyaluronate, Hydrolyzed Sodium Hyaluronate, Hydrolyzed Hyaluronic Acid, Hyaluronic Acid, Pentylene Glycol, Sodium Hyaluronate Crosspolymer, Madecassoside, Madecassic Acid, Asiaticoside, Asiatic Acid, Sodium Acetylated Hyaluronate

Отзывы

Отзывов пока нет.

Будьте первым, кто оставил отзыв на “Mizon Cicaluronic Water Fit Mask”

Ваш адрес email не будет опубликован. Обязательные поля помечены *